उच्च शुद्धता स्पटरिंग धातु लक्ष्य टाइटेनियम टीआई चीन से विशेष आकार के अनुकूलन निर्माता को लक्षित करता है

टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री, टाइटेनियम प्रतीक Ti, परमाणु संख्या 22, घनत्व 4.454g/Cm3, भौतिक गुण: गलनांक 1668°C, क्वथनांक 3262°C, विशिष्ट ताप क्षमता 0.52 (J / (Kg·K), वाष्पीकरण की गर्मी 421 (केजे / मोल), संलयन की गर्मी 15.45 (केजे / मोल) है, और चालकता 0.0234 (106 / सेमी) है। क्योंकि उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम की लागत काफी महंगी है और आवेदन क्षेत्र अत्यंत है लिमिटेड, यह मुख्य रूप से सेमीकंडक्टर सामग्री और अल्ट्रा-हाई वैक्यूम उपकरणों में गेट्टर सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है।

उच्च शुद्धता टाइटेनियम में गेट्टरिंग गुण होते हैं, विशेष रूप से हाइड्रोजन, सीएच 4, सीओ 2 गैस, इसलिए इसे उच्च वैक्यूम और अल्ट्रा-हाई वैक्यूम सिस्टम में व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है। एलएसआई, वीएलएसआई, यूएलएसआई लाइन नेटवर्क बनाने के लिए उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम स्पटरिंग का उपयोग करते समय, यह इन एकीकृत भागों को असाधारण रूप से हल्का, पतला, आकार में छोटा और सर्किट में घने हो सकता है। उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम लक्ष्य को बैरियर धातु सामग्री के रूप में भी इस्तेमाल किया जा सकता है। निम्नलिखित चित्र टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य के दो विशिष्ट सूक्ष्म मेटलोग्राफिक निरीक्षण चित्र हैं, औसत कण आकार 50um से कम है।

जब तक आप विस्तृत लक्ष्य जानकारी प्रदान करते हैं, जैसे कि शुद्धता, आकार, सहिष्णुता आवश्यकताओं और अन्य तकनीकी आवश्यकताएं, हम आपको जल्द से जल्द एक उद्धरण प्रदान करेंगे और सबसे तेज़ डिलीवरी समय प्रदान करेंगे।

हम उच्च शुद्धता वाले स्पटरिंग लक्ष्य तैयार करते हैं। इसका सबसे महत्वपूर्ण लाभ यह है कि भौतिक वाष्प जमाव की प्रक्रिया में उत्कृष्ट विद्युत चालकता और कण न्यूनीकरण के साथ एक पतली फिल्म प्राप्त की जा सकती है। निम्न तालिका 4N5 उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य के संरचना विश्लेषण का प्रमाण पत्र है। प्रयुक्त विश्लेषण विधियाँ: 1. धातु तत्वों का विश्लेषण करने के लिए GDMS या ICP-OES का उपयोग करें; 2. गैस तत्व विश्लेषण के लिए LECO का प्रयोग करें।